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干法刻蚀工序中的常用气体之CF4

CF4是干法刻蚀工序中的常用气体，它除了在干法刻蚀中被经常用到外，在真空腔室的清洁中，也是不可或缺的气体。那么CF4气体有哪些物化性质？高纯CF4气体会有哪些杂质？可以用在哪些晶圆材料的刻蚀？

2025年7月，中国半导体制造设备进口额达到37.61亿美元，环比增长11%，同比增长10%，创下2025年单月最高纪录。截至7月，年内累计进口同比上升2%，需求韧性超出市场预期。

电子发烧友网报道（文/莫婷婷）近日，屹唐股份指控应用材料侵权，一场由前员工跳槽引发的商业秘密之争成为业界关注的焦点。加之此前台积电2纳米核心技术泄密等事件、华为起诉尊湃等侵权案件频现，再次凸显了高端芯片技术竞争背后的知识产权安全挑战。

8月13日，北京屹唐半导体科技股份有限公司（以下简称“屹唐股份”）公告称，公司因认为应用材料公司（APPLIED MATERIALS, INC.）非法获取并使用了公司的等离子体源及晶圆表面处理相关的核心技术秘密，在中国境内以申请专利的方式披露了该技术秘密，且将